L’invenzione consiste in un metodo e un apparato per l'erogazione a bassa pressione (uguale o minore di 10-7 Torr) di fluoro monoatomico per la reazione con superfici in un ambiente ultra pulito. Grazie ai bassi valori di pressione coinvolti nel metodo proposto, i rischi connessi all’uso del fluoro sono ridotti al minimo. La reazione chimica sulle superfici avviene con il fluoro monoatomico anziché con il fluoro molecolare: pertanto non essendo necessario rompere il legame molecolare del fluoro, la potenza reattiva del gas aumenta notevolmente. La pressione necessaria per ottenere l’equilibrio termodinamico fra una determinata sostanza e il gas è ridotta di svariati ordini di grandezza.